英特尔迎来未来:荷兰 ASML 交付首台 2nm 超高精度光刻机

英特尔迎来未来:荷兰 ASML 交付首台 2nm 超高精度光刻机


快科技报道,12月24日,荷兰光刻机市场的领头羊ASML对外宣称,它已向英特尔公司提供了全球首台高数值孔径极紫外线(High NA EUV)光刻机。此次交付的仪器预期将会极大推进计算机芯片领域的创新,使半导体设计能够达到更小尺寸、更高速度的新境界。每一台该型号光刻机都价值高达3亿美元以上。

该公司透过官方社交媒体账户公开了一张位于荷兰埃因霍温总部的发货现场照片,一看便知光刻机的某个部分正被小心地装置在加有保护措施的箱体内。令人瞩目的是,箱子上绑扎着象征庆贺的红色丝带。ASML公司在消息发出时表示:“ 经过10年的创新科学研究和系统工程发展,这台机器的诞生值得我们深深鞠躬致敬。能将我们的第一台高数值孔径的极紫外光刻机交付给Intel,我们感到无比的兴奋和自豪。”

据了解,其体积庞大的新型光刻机的构建是一项宏大的工程,装配完成后,其体量将超过一辆普通卡车。为了运输,整个光刻机需要拆分成250个独立的板条箱,包括13个特大的集装箱。业界预计,这款机器将于2026年或2027年开始被用于企业级芯片的生产。

数值孔径(NA)是评价光刻机光学系统的核心参数之一,它决定了光刻的实际分辨率能力与可实现的最精细工艺节点。随着科技的进步,当金属线宽被推进到不足30nm,对应的工艺节点超越5nm时,传统的低数值孔径光刻技术已不再能满足需要。在这种情况下,EUV技术成为了主流,但原有技术需要借助双重曝光或曝光成形(pattern shaping)技巧来实现所需的精细加工,这样不免增加了成本,并影响良品率。因此,高数值孔径的EU光刻机成为了行业迈向更小工艺节点的关键解决方案。

今年9月,ASML曾宣布计划在年底向客户发货首台高数值孔径EUV光刻机,型号为”Twinscan EXE:5000″。这标志着ASML在光刻技术上持续保持行业领先地位,而这台最新型号的机器将能够制造2nm及更先进工艺节点的芯片,为全球半导体产业的持续进步提供了重要的技术支持。随着更高级的芯片制造技术的问世,未来智能设备的性能和效率预期将得到极大提高,推动整个行业进入一个新的时代。

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